ASML gibt ein weiteres Bekenntnis zu seinem Heimatstandort Veldhoven ab: Wie der niederländische Halbleiter-Ausrüster vor wenigen Tagen bekannt gab, habe er gemeinsam mit dem belgischen Forschungszentrum Imec in Veldhoven ein wichtiges Labor für Kundenzwecke eröffnet.
ASML: Labor soll Kunden an High-NA-EUV-Technologie heranführen
Dieses sogenannte High NA EUV Lithography Lab soll Chipherstellern und Lieferanten Zugang zum ersten Prototyp eines High-NA-EUV-Scanners inklusive Verarbeitungs- und Messwerkzeugen bieten. ASML betonte die mehrjährige Bau- und Integrationsphase des Labors, das ein Meilenstein zur Vorbereitung der Massenproduktion der Scanner ab 2025 bzw. 2026 sei. Das Labor dient dazu, Kunden bei der Risikominimierung rund um die Technologie und bei der Entwicklung eigener High-NA-EUV-Anwendungen zu unterstützen – bevor die Scanner in deren Fabriken in Betrieb genommen werden.
„High NA EUV ist der nächste Meilenstein in der optischen Lithografie, der die Strukturierung von Metalllinien/-flächen mit 20 nm Abstand in einer einzigen Belichtung verspricht und die nächsten Generationen von DRAM-Chips ermöglicht“, erklärte Imec-CEO Luc Van den hove. „Dies wird die Ausbeute verbessern und die Zykluszeit und sogar die CO2-Emissionen im Vergleich zu den bestehenden 0,33-NA-EUV-Multipatterning-Verfahren verringern.“
ASML-Chef hofft auf schnellere Implementierung der Maschinen bei den Kunden
Das neue Labor biete unseren Kunden, Partnern und Lieferanten die Möglichkeit, das High NA EUV-System für die Prozessentwicklung zu nutzen, während sie darauf warten, dass ihr eigenes System in den Fabriken zur Verfügung stehe, ergänzte ASML-Chef Christophe Fouquet. „Diese Art der sehr frühen Einbindung in das Ökosystem ist einzigartig und könnte die Lernkurve für die Technologie erheblich beschleunigen und die Einführung in die Fertigung vereinfachen. Wir sind entschlossen, mit unseren Kunden zusammenzuarbeiten und sie auf ihrer Reise mit High NA EUV zu unterstützen.“
Zur Einordnung: High NA EUV (Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) ist eine fortschrittliche Technologie in der Halbleiterlithographie, die verwendet wird, um im Vergleich zu älteren Lithographie-Systemen noch kleinere Strukturen auf Computerchips zu generieren.
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